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熔鹽浸滲系統(tǒng) 重油加氫裝置精餾塔試驗(yàn)裝置核石墨熔鹽相容性測(cè)試裝置固定床加氫裝置潤(rùn)滑油加氫裝置電極腐蝕測(cè)試設(shè)備 PVC單體合成裝置 200ml煤焦油加氫裝置 200ml雙套重油高壓加氫裝置 30L煤焦油加氫中試裝置 50ml高壓加氫裝置連續(xù)合成橡膠試驗(yàn)裝置煤炭加氫氣化裝置加壓精餾裝置甲烷化試驗(yàn)裝置結(jié)晶動(dòng)力學(xué)裝置費(fèi)拓合成漿態(tài)床裝置費(fèi)托反應(yīng)裝置釜式水解中試裝置高溫裂解小試裝置高壓釜式反應(yīng)裝置單管加氫裝置單管醚化裝置丁二烯氧化脫氫裝置丁烯水合裝置多功能油品加氫裝置多通道分布催化劑裝置異丁烯制叔丁胺裝置異構(gòu)化評(píng)價(jià)裝置原顆粒反應(yīng)評(píng)價(jià)裝置原粒度催化劑評(píng)價(jià)裝置蒸汽裂解制乙烯評(píng)價(jià)裝置蒸汽裂解制乙烯裝置烯烴水合裝置小試催化劑評(píng)價(jià)裝置小型催化劑評(píng)價(jià)裝置旋轉(zhuǎn)精餾塔裝置移動(dòng)床試驗(yàn)平臺(tái) 四管多通道催化劑評(píng)價(jià)裝置四管固定床小試裝置碳二加氫側(cè)線裝置碳五精餾裝置碳五樹(shù)脂加氫評(píng)價(jià)裝置天然氣脫硫脫碳裝置模擬氣二氧化碳吸附裝置氣相固定床裝置 HI酸裝置燃料高壓合成裝置熱溶式直接煤液化連續(xù)反應(yīng)裝置熔巖加熱固定床試驗(yàn)裝置電子級(jí)雙氧水項(xiàng)目顯影劑裝置乙醇溶劑回收精餾裝置電子化學(xué)品反應(yīng)裝置 CMP拋光液研發(fā)裝置電子級(jí)氨水裝置 CMP化學(xué)機(jī)械拋光液生產(chǎn)裝置 CMP拋光液工藝裝置 CMP拋光液中試裝置 NMP剝離液溶劑回收裝置剝離液溶劑回收裝置鋰電溶劑回收裝置液晶面板溶劑回收裝置電子級(jí)氟化銨裝置光刻膠反應(yīng)裝置化學(xué)機(jī)械拋光液制備裝置乙醇溶劑回收精餾工藝模塊 NMP廢液溶劑回收裝置半導(dǎo)體拋光液制備裝置半導(dǎo)體前驅(qū)體材料研發(fā)裝置半導(dǎo)體前驅(qū)體小試裝置半導(dǎo)體前驅(qū)體研發(fā)裝置半導(dǎo)體前驅(qū)體中試裝置電子級(jí)G5硫酸項(xiàng)目聚酯改性釜式裝置酯化縮聚平行反應(yīng)裝置烯烴共聚連續(xù)模試裝置聚酯反應(yīng)釜聚合平行反應(yīng)裝置聚合反應(yīng)釜
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半導(dǎo)體拋光液制備裝置

描述：半導(dǎo)體拋光液制備裝置是用于生產(chǎn)半導(dǎo)體拋光液的專用設(shè)備。

廠商性質(zhì)：生產(chǎn)廠家
更新時(shí)間：2024-08-14
訪問(wèn)量：561

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標(biāo)題：半導(dǎo)體拋光液制備裝置

產(chǎn)品概述

半導(dǎo)體拋光液制備裝置是用于生產(chǎn)半導(dǎo)體拋光液的專用設(shè)備。

它通常由以下幾個(gè)主要部分構(gòu)成：

原料儲(chǔ)存系統(tǒng)：

多個(gè)不同規(guī)格的儲(chǔ)罐，分別用于存放磨料（如納米級(jí)二氧化硅、氧化鋁等）、化學(xué)添加劑（如氧化劑、表面活性劑、螯合劑等）以及溶劑（如水、有機(jī)溶劑等）。

精確計(jì)量系統(tǒng)：

高精度的計(jì)量泵或稱重傳感器，能夠按照精確的配方比例準(zhǔn)確地添加各種原料。

攪拌混合系統(tǒng)：

強(qiáng)力攪拌器或均質(zhì)機(jī)，確保各種原料充分混合均勻，達(dá)到微觀層面的均勻性。

溫度控制系統(tǒng)：

加熱和冷卻裝置，可根據(jù)需要控制反應(yīng)和混合過(guò)程中的溫度，以優(yōu)化化學(xué)反應(yīng)和物理混合效果。

過(guò)濾系統(tǒng)：

精細(xì)的過(guò)濾裝置，如微孔過(guò)濾器或超濾膜，用于去除可能存在的大顆粒雜質(zhì)和團(tuán)聚物，保證拋光液的純凈度。

質(zhì)量監(jiān)測(cè)系統(tǒng)：

在線粒度分析儀：實(shí)時(shí)監(jiān)測(cè)磨料顆粒的粒徑分布。
pH 計(jì)：檢測(cè)溶液的酸堿度。
電導(dǎo)率儀：測(cè)量溶液的電導(dǎo)率，以評(píng)估溶液中離子的含量。

自動(dòng)化控制系統(tǒng)：

對(duì)整個(gè)制備過(guò)程進(jìn)行自動(dòng)化控制和數(shù)據(jù)記錄，保證生產(chǎn)的穩(wěn)定性和可重復(fù)性。

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